无锡工厂将承揽SK海力士DRAM一半产量
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（文/小北）昨天，SK海力士无锡二工厂（C2F）举行了竣工仪式。二工厂是在原有DRAM生产线C2的基础上实施的扩建工程。二工厂项目全部建成后，SK海力士无锡工厂将形成月产18万片12英寸晶圆的产能，年销售额也计划达到33亿美元。
SK海力士二工厂项目于2017年10月签约，总投资86亿美元，其中16亿美元用于新建33000平米洁净厂房及其附属配套设施、70亿美元用于购买全球最先进的半导体生产设备，项目建设期限为2017年到2026年。
据悉，C2F是一个单层FAB厂房，建筑面积58000平方米，建筑规模与现有的C2 FAB厂房相似。据无锡高新区在线报道，当前，SK海力士总建筑面积达到267477平方米，洁净室面积达33390平方米。SK海力士已经完成二工厂部分洁净厂房工程，搬入装备后开始DRAM生产。
集微网在昨天的报道中已经指出，目前SK海力士占有中国DRAM市场约35%，待二工厂项目全部建成投产后SK海力士将占有超过45%的中国DRAM市场份额，成为全球单体投资规模最大、月产能最大、技术最先进的10纳米级DRAM产品生产基地。
而对于SK海力士而言，无锡高新区在线报道指出，至此无锡工厂将承担SK海力士存储半导体生产总量的一半份额。
在员工方面，SK海力士新招纳1800名高新人才，未来无锡工厂的人才规模将达到5000名。
此外，据无锡高新区在线报道，SK海力士正在筹建中国最顶尖的医院与学校，致力于为无锡人民提供更好的医疗、教育基础设施。SK海力士还通过与江苏省的战略合作项目，推进半导体人才培养计划，为中国的半导体生态体系培育出更多的专业人才。另外，还将基于去年成立的社会型企业“爱思开海力士保洁（无锡）有限公司”，为社会弱势群体提供更多自力更生的机会。（校对/春夏）
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